Ultraschallspray-Technologie für Solarzellen-Beschichtung
Ultraschallspraytechnologie wird in beiden Anwendungen des photo-voltaischen kristallenen Silikons (CSi) und des Dünnfilms eingesetzt. Ultraschallspraytechnologie, wenn sie mit chemischem Dampf die Technologie (CVD) verglichen wird und, Drehbeschleunigungsbeschichtung spritzt, rollen Beschichtung und Nebelbeschichtungstechniken können sein kosteneffektivere Durchschnitte des Niederlegens von Dünnfilmbeschichtungen auf Solarzellen. Wegen der hohen Einheitlichkeit von atomisierten Tröpfchen und von ihrer niedrigen Geschwindigkeit während des Beschichtungsverfahrens, in hohem Grade einheitlich, starke Schichten des Mikrometers kann auf CSi und dünnen Solarfilmzellen gebildet werden. Zusätzlicher Nutzen des minimalen Abfalls oder des Oversprays kann zu bedeutende Materialersparnisse auch führen.
Ultraschallspraytechnologie wird mit der folgenden Chemie eingesetzt:
Dopante, Absorber, Puffer, organische Produkte, etc.
Saure Bordopante
Absorber der Kadmiumchlorverbindung (CdTe)
Kadmiumsulfid (CDs) – Pufferschicht verwendet in den CIGS, CdTe-Zellen
Kupferne Absorber des Indiumgallium-Selenids (CIGS oder DIESSEITS)
Kupferne Absorber des Zinkzinn-Sulfids (CZTS)
Färbung sensibilisierte organische Solarzellen (DSC, DSSC oder DYSC)
P3HT
PEDOT
PCBM
Phosphorhaltige auf Säure basierende Dopante in der Emitterbildung
Quantenpunkte (QD)
Ultraschallspray von ist erfolgreich benutzt worden, um eine Vielzahl von Quantenpunkten zu sprühen. sind ZnO-Filme und CD-Quantenpunkte unter Verwendung der Ultraschallspraypyrolyse-Absetzungstechniken an einem Bruch der Kosten von CVD und Spritzenmethoden vorbereitet worden.
Transparente leitfähige Oxide (TCO)
Zinndioxid (SnO2)
Indiumzinnoxid (ITO)
Zinkoxid (ZnO) als Nanodrähte in DSC-Anwendungen
Kohlenstoffnanoröhrchen (CNT)
Silberne Nanodrähte (AGNW)
Graphen
Beschichtungen der Antireflektions(AR)
SiO2
TiO2
Internationales Microspray kann von R&D-Skalalösungen zu Produktionsausrüstung für Solarzellenbeschichtung zur Verfügung stellen.
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